maska

maska (engl. mask; njem. Maske; rus. маска), 1. u fotografiji, sjenilo kojim se pri osvjetljivanju onemogućuje ili smanjuje prolazak svjetla na pojedine dijelove fotografskoga materijala. Upotrebljava se kao kreativno ili korektivno sredstvo pri snimanju ili izradbi fotografija. – 2. pri proizvodnji elektroničkih poluvodičkih komponenata i sklopova, sjenilo za oblikovanje kristalne podloge fotopostupkom i jetkanjem. Uglavnom je to staklena ploča s ucrtanim područjima s kojih treba ukloniti oksidni sloj, obično kao neprozirni dijelovi na prozirnoj podlozi. Površina poluvodiča premazana je slojem fotoosjetljivoga materijala (→ fotorezist), a osvjetljuju se kroz masku ultraljubičastim zračenjem. Osvijetljeni fotorezist polimerizira, pa se kem. postupkom može ukloniti, a zatim se uklanja nezaštićeni dio oksidnoga sloja. Tako nastaju otvori u oksidnom sloju, kroz koje difundiraju primjese ili se naparuju el. kontakti. → difuzijski postupak, → fotolitografija, → jetkanje